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HN2016智能sf6微水測試儀冷鏡式露點儀 氣體抽真空充放裝置 sf6冷鏡法露點儀 5年保修
露點 |
測量范圍 |
-80 ℃~+20 ℃ |
測量精度 |
±1℃(-80℃~+20℃) |
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測量時間 (+20℃) |
<3分鐘。 |
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環(huán)境溫度 |
-40℃~+60℃ |
給各分管路打壓,檢測哪一路地暖盤管可能漏水自從FLIRONRPRO紅外熱像儀應運而生,一切都迎刃而解。整個檢測過程和要點主要概括為下面幾步:步,通過對地暖各分路進行打壓,判斷存在漏水的管道。在現(xiàn)場我們發(fā)現(xiàn),路管道施加5公斤壓力后,在3分鐘內只剩下1公斤壓力,屬于明顯的漏水可疑對象,而其他二路并無失壓情況。據此,我們初步判斷路地暖盤管存在漏水情況。得出結果后,接下來就需要使用FLIRONEPRO紅外熱像儀查找具體漏水點。1、連接SF6設備
將測量管道上螺紋端與開關接頭連接好,用扳手擰緊,關閉測量管道上另一端的針型閥;
再把測試管道上的快速接頭一端插入儀器上的采樣口;
將排氣管道連接到出氣口。
后將開關接頭與SF6電氣設備測量接口連接好,用扳手擰緊;
2、檢查電量
本儀器優(yōu)先使用交流電。
使用直流電時,請查看右上角顯示的電池電量,如果電量低于約20%,請關機充電后繼續(xù)使用。
3、開始測量
打開儀測量管道上的針型閥,然后用面板上的流量閥調節(jié)流量,把流量調節(jié)到0.5L/M左右,開始測量SF6露點。
設備測量時間需要5~10分鐘,其后每臺設備需要3~5分鐘。
4、存儲數據
設備測量完成后,可以將數據保存在儀器中,按“確定”鍵調出操作菜單,具體操作方式見下節(jié)內容。傳感器對某一物理量的準確程度取決于傳感器的性能指標。為了確定傳感器的測量范圍、準確性,必須對傳感器的性能指標進行測試。對新研制的傳感器,必須進行的技術性能的測試和校準,用測試和校準的數據確定其測試范圍、準確程度。對于標準型的傳感器,用校準數據進行量值傳遞。這些測試數據,既是衡量傳感器好壞的依據,也是改進傳感器設計和工藝的依據。傳感器經過一段時間儲存或使用后,性能指標是會發(fā)生變化的,因此對傳感器的性能指標要定期進行復測。
5、測量其他設備
一臺設備測量后,關閉測量管道上的針型閥和微水儀上的調節(jié)閥。將轉接頭從SF6電氣設備上取下。如果需要繼續(xù)測量其他設備,按照上面步驟繼續(xù)測量下一臺設備。
6、測量結束
所有設備測量結束后,關閉儀器電源。
一、 菜單操作
在測量狀態(tài),通過確定鍵可以進入功能菜單,如圖1。
本系統(tǒng)采用基于Raman后向散射的分布式光纖溫度傳感原理,采用雙通道雙波長比較方法,即分別采集Anti-Stokes光和Stokes光,利用兩者強度的比值解調溫度信號。由于Anti-Stokes光對溫度更靈敏,因此Anti-Stokes光作為信號通道,Stokes光作為比較通道,則兩者之間的強度比為式中,λs,λas分別為Stokes和Anti-Stokes光波長;h為普朗克常數;c為真空中的光速;k是玻耳茲曼常量;△γ為偏移波數:T為溫度。
1、保存數據
在測量狀態(tài),通過按“確定”鍵可以進入功能菜單,按“上”、“下”鍵選擇“保存記錄”菜單,按“確定”鍵,進入保存數據頁面,保存數據時,可以根據設備進行編號。
設備編號多為六位,可以通過“上”、“下”鍵增加數值大小,“左”、“右”鍵調整數據位數。
輸入編號后,按“確定”鍵,完成保存數據。按“返回”鍵可以返回上一頁,此時不保存數據。
2、查看記錄
在測量狀態(tài),通過按“確定”鍵可以進入功能菜單,按“上”、“下”鍵選擇“查看記錄”菜單,按“確定”鍵,進入查看記錄頁面。
顯示時從后一個被保存的數據開始。
可以按“上”、“下”鍵翻看數據。有必要采用一些其他方法來提高傳導EMI的性能。本文主要討論的是引入輸入濾波器來濾除噪聲,或增加罩來鎖住噪聲。EMI濾波器示意簡圖是一個簡化的EMI濾波器,包括共模(CM)濾波器和差模(DM)濾波器。通常,DM濾波器主要用于濾除小于30MHz的噪聲(DM噪聲),CM濾波器主要用于濾除30MHz至100MHz的噪聲(CM噪聲)。但其實這兩個濾波器對于整個頻段的EMI噪聲都有一定的作用。顯示了一個不帶濾波器的輸入引線噪聲,包括正向噪聲和負向噪聲,并標注了這些噪聲的峰值水平和平均水平。
3、刪除記錄
在測量狀態(tài),通過按“確定”鍵可以進入功能菜單,按“上”、“下”鍵選擇“刪除記錄”菜單,按“確定”鍵,可刪除所有數據。
4、修改時間
在測量狀態(tài),通過按“確定”鍵可以進入功能菜單,按“上”、“下”鍵選擇修改時間,按“確定”鍵,進入修改時間頁面。
通過“上”、“下”鍵可以增加時間數值,“左”、“右”鍵可以減小時間數值。
輸入小時、分鐘、秒后,按“確定”鍵可以轉到下一個修改域內。
半導體生產流程由晶圓制造,晶圓測試,芯片封裝和封裝后測試組成,晶圓制造和芯片封裝討論較多,而測試環(huán)節(jié)的相關知識經常被邊緣化,下面集中介紹集成電路芯片測試的相關內容,主要集中在WAT,CP和FT三個環(huán)節(jié)。集成電路設計、制造、封裝流程示意圖WAT(WaferAcceptanceTest)測試,也叫PCM(ProcessControlMonitoring),對Wafer劃片槽(ScribeLine)測試鍵(TestKey)的測試,通過電性參數來監(jiān)控各步工藝是否正常和穩(wěn)定,CMOS的電容,電阻,Contact,metalLine等,一般在wafer完成制程前,是Wafer從Fab廠出貨到封測廠的依據,測試方法是用ProbeCard扎在TestKey的metalPad上,ProbeCard另一端接在WAT測試機臺上,由WATRecipe自動控制測試位置和內容,測完某條TestKey后,ProbeCard會自動移到下一條TestKey,直到整片Wafer測試完成。