HNCJ系列雷電沖擊電壓發(fā)生裝置
來電咨詢 沖擊電壓發(fā)生器 調(diào)頻串聯(lián)諧振 感應(yīng)耐壓試驗(yàn)裝置產(chǎn)品簡介：

聯(lián)系人車高平13608980122/15689901059沖擊電壓發(fā)生器主要用于電力設(shè)備等試品進(jìn)行雷電沖擊電壓全波、雷電沖擊電壓截波和操作沖擊電壓波的沖擊電壓試驗(yàn)，檢驗(yàn)絕緣性能。沖擊電壓發(fā)生器一種模仿雷電及操作過電壓等沖擊電壓的電源裝置。主要用于絕緣沖擊耐壓及介質(zhì)沖擊擊穿、放電等試驗(yàn)中。

儀器上讀到的電壓值與導(dǎo)線中的電流值通過傳輸阻抗換算。傳輸阻抗定義為：儀器輸入阻抗上感應(yīng)的電壓與導(dǎo)線中的電流之比。對(duì)于一個(gè)具體的，可以從廠家提供的說明書中查到它的轉(zhuǎn)移阻抗ZT。導(dǎo)線中的電流等于：I=V/ZT如果公式中的所有物理量都用dB表示，則直接相減。對(duì)于機(jī)箱的泄漏，要用近場進(jìn)行探測。近場可以看成是很小的環(huán)形天線。由于它很小，因此靈敏度很低，僅能對(duì)近場的輻射源進(jìn)行探測。這樣有利于對(duì)輻射源進(jìn)行。

沖擊測試系統(tǒng)系應(yīng)用于諸如電力變壓器、比成器、高壓開關(guān)及電力電纜等高壓器材的沖擊電壓試驗(yàn)。此種測試系依據(jù)相關(guān)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范執(zhí)行全波（full）或截?cái)啵╟hopped） 的閃電突波（L.I）

電磁干擾對(duì)于檢測系統(tǒng)來說，也是為普遍并且也是影響為嚴(yán)重的干擾。電磁干擾也是我們?cè)跍y試時(shí)的注意點(diǎn)。經(jīng)常發(fā)現(xiàn)的干擾就包括：靜電耦合形成干擾、電磁耦合形成干擾、輻射電磁場耦合形成干擾等等。我們一般解決干擾會(huì)從三個(gè)方向著手：解決干擾源舉個(gè)例子，在電源測試時(shí)，我們會(huì)發(fā)現(xiàn)被測系統(tǒng)里有很多繼電器、接觸器和斷路器的電觸點(diǎn)，上下電時(shí)的這些電觸點(diǎn)的火花是很強(qiáng)的干擾源。如果我們此時(shí)正在測試電觸點(diǎn)附近的電路則很容易發(fā)現(xiàn)測試值有些波動(dòng)異常。
HNCJ-V 雷電沖擊電壓發(fā)生裝置產(chǎn)品特征

本部分主要是控制沖擊電壓發(fā)生器的操作，手動(dòng)或自動(dòng)完成充放電過程，真正實(shí)現(xiàn)智慧化操作。

充電控制功能

系統(tǒng)采用恒流充電。

根據(jù)試驗(yàn)要求，調(diào)節(jié)充電電壓、充電時(shí)間、延時(shí)時(shí)間，能夠手動(dòng)或者自動(dòng)控制電壓發(fā)生器的充電過程。采用自動(dòng)控制方式充電時(shí)，根據(jù)設(shè)定值，自動(dòng)充電并穩(wěn)定在充電電壓值上，延時(shí)3秒報(bào)警觸發(fā)。充電電壓的重復(fù)性和穩(wěn)定度很好。

動(dòng)作控制

本體球距大小能夠自動(dòng)跟蹤設(shè)定充電電壓值，也可手動(dòng)控制調(diào)節(jié)球距大小。本體球距值在觸摸屏或組態(tài)軟件中有顯示。

截波球距大小能夠自動(dòng)跟蹤設(shè)定充電電壓值，也可手動(dòng)控制調(diào)節(jié)球距大小。截波球距值在觸摸屏或組態(tài)軟件中有顯示。

可控制本體自動(dòng)接地、充電極性切換、充電次數(shù)設(shè)定等功能。

手動(dòng)/自動(dòng)控制。

2 觸發(fā)控制

系統(tǒng)能夠手動(dòng)、自動(dòng)或報(bào)警觸發(fā)沖擊電壓發(fā)生器點(diǎn)火。觸發(fā)點(diǎn)火信號(hào)可以立延時(shí)

均值抽取均值抽取均值抽取同樣把原始采樣波形分成若干段，每段各自算出平均值，作為該段的抽取點(diǎn)。這種方案可以認(rèn)為是前兩種方案的折中，通過求均值，既保證相鄰點(diǎn)之間的時(shí)間間隔均等，又盡可能使抽取波形與原波形保持一致；但是也存在對(duì)于太高頻的信號(hào)，峰值會(huì)被過濾掉，無法反映信號(hào)的峰值。我們?cè)賮砜捶N情況：波形片段中的采樣點(diǎn)數(shù)少于屏幕顯示區(qū)域的像素?cái)?shù)。這種情況就需要在采樣點(diǎn)間填充虛構(gòu)的采樣點(diǎn)來解決。直接填充直接填充在需要填充虛構(gòu)采樣點(diǎn)的位置上，直接復(fù)制前面一個(gè)真實(shí)采樣點(diǎn)。