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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:JP櫃大電流電源HNDL 大電流衝擊試驗(yàn)裝置 容量大 5年保修

  • 產(chǎn)品型號(hào):HNDL
  • 產(chǎn)品廠商:華能
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簡單介紹:
適用於JP櫃,配電箱溫升試驗(yàn),電力係統(tǒng)技術(shù)人員檢驗(yàn)電流互感器保護(hù)裝置及二次回路電流試驗(yàn)。也可用於開關(guān),電纜、直流電流傳感器和其它電器設(shè)備作電流負(fù)載試驗(yàn)及溫升試驗(yàn)。JP櫃大電流電源HNDL 大電流衝擊試驗(yàn)裝置 容量大 5年保修
詳情介紹:

HNDL800 JP櫃 配電箱溫升試驗(yàn)係統(tǒng) JP櫃大電流電源HNDL 大電流衝擊試驗(yàn)裝置 容量大 5年保修 

JP櫃大電流電源HNDL 大電流衝擊試驗(yàn)裝置 容量大 5年保修
聯(lián)係人車高平13608980122/15689901059用於箱變
,
配電箱額定電流溫升試驗(yàn)。溫升試驗(yàn)裝置技術(shù)性能需滿足根據(jù)GB/T11022、DL/T 593、GB/T 3906、DL/T 404等試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)開關(guān)櫃進(jìn)行試驗(yàn)的要求。本文主要介紹一下采樣率和分辨率對(duì)於信號(hào)發(fā)生器輸出波形的影響。DDS和Arb的原理簡介DDS模式在DDS模式下,信號(hào)發(fā)生器使用一個(gè)特彆的緩存訪問機(jī)製和時(shí)鐘機(jī)製來實(shí)現(xiàn)DDS模式。使用DDS模式可以輸出一個(gè)高精度頻率的波形。傳統(tǒng)的模式是輸出儲(chǔ)存器中波形的每個(gè)樣點(diǎn),與傳統(tǒng)的模式不同DDS模式在緩存中儲(chǔ)存著單個(gè)周期的大量采樣點(diǎn),使用DDS技術(shù)可以讓函數(shù)發(fā)生器或者是任意波形發(fā)生器從緩存中選擇輸出哪個(gè)樣本點(diǎn)。

JP櫃大電流電源HNDL 大電流衝擊試驗(yàn)裝置 容量大 5年保修1.2 技術(shù)參數(shù)要求

恒流輸出電流:AC範(fàn)圍 0到額定電流,連續(xù)可調(diào), 且該輸出電流為真有效值(指負(fù)載被試開關(guān)櫃及相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的試驗(yàn)附件, 可輸出的電流有效值, 電流穩(wěn)定輸出時(shí)間應(yīng)滿足工作時(shí)間要求)

輸出波形:標(biāo)準(zhǔn)正弦波

輸出頻率: 50Hz (+5%, -2%)

輸出電壓:0-6V,且連續(xù)可調(diào)

工作時(shí)間:大電流輸出不少於24小時(shí)

輸出相數(shù):三相  多路

研究發(fā)現(xiàn):減小微波脈衝的寬度與提高微波脈衝的峰值功率都能改善成像分辨率、獲得更好的成像效果。同時(shí),越窄的微波脈寬(幾十納秒脈寬),對(duì)身體潛在的熱損傷越小。基於1465係列微波信號(hào)發(fā)生器(窄脈衝選件)為您提供具有高速上升下降沿時(shí)間(1ns以內(nèi))、高精度脈寬到2ns和準(zhǔn)確穩(wěn)定的功率電平輸出窄脈衝調(diào)製信號(hào),且窄脈衝調(diào)製信號(hào)具有多種調(diào)製格式如脈內(nèi)線性調(diào)頻、脈內(nèi)調(diào)相等特點(diǎn),能夠?yàn)楸粶y設(shè)備的測試提供更豐富的激勵(lì)信號(hào)。JP櫃大電流電源HNDL 大電流衝擊試驗(yàn)裝置 容量大 5年保修


1.3 恒流源配置列表:(按照客戶具體需求配置)

序號(hào)

名稱

數(shù)量

1

3回路三相0-100A電流調(diào)節(jié)器

1

2

3回路三相0-400A電流調(diào)節(jié)器

1

3

3回路三相0-630A電流調(diào)節(jié)器

1

4

3回路三相0-800A電流調(diào)節(jié)器

1

JP櫃大電流電源HNDL 大電流衝擊試驗(yàn)裝置 容量大 5年保修同步檢測是一項(xiàng)實(shí)用的技術(shù),它可通過許多儀器儀表應(yīng)用提取低於噪底的嵌入低電平信號(hào)。:測量非常小的電阻,測量在強(qiáng)背景光下光的吸收或反射,或者甚至在高噪聲電平的情況下進(jìn)行應(yīng)變測量。當(dāng)頻率接近直流時(shí),許多電氣和物理係統(tǒng)都會(huì)有更高的噪聲。,運(yùn)算放大器有1/f的噪聲,並且露天光學(xué)測量係統(tǒng)會(huì)受日光、白熾燈、熒光燈和其他光源造成的環(huán)境光照條件變化產(chǎn)生的噪聲影響。如果可以使測量遠(yuǎn)離這些低頻噪聲源,則可以獲得更高的信噪比並檢測出弱得多的信號(hào)。JP櫃大電流電源HNDL 大電流衝擊試驗(yàn)裝置 容量大 5年保修


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