HNCJ係列雷電衝擊電壓發(fā)生裝置
大量供應(yīng) 雷衝擊電壓發(fā)生器 高壓試驗(yàn)變壓器 感應(yīng)耐壓試驗(yàn)裝置產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

聯(lián)係人車高平13608980122/15689901059衝擊電壓發(fā)生器主要用於電力設(shè)備等試品進(jìn)行雷電衝擊電壓全波、雷電衝擊電壓截波和操作衝擊電壓波的衝擊電壓試驗(yàn)，檢驗(yàn)絕緣性能。衝擊電壓發(fā)生器一種模仿雷電及操作過電壓等衝擊電壓的電源裝置。主要用於絕緣衝擊耐壓及介質(zhì)衝擊擊穿、放電等試驗(yàn)中。

加氣設(shè)備泄露天然氣運(yùn)輸車連接處泄露通過觸摸屏快速調(diào)整聲學(xué)成像儀頻段，化碳?xì)怏w泄漏的頻段通常在2kHz以上，該現(xiàn)場(chǎng)的頻段設(shè)置為3kHz-45kHz（黃色框），使用ii9聲學(xué)成像儀，可以清晰地反映出泄漏點(diǎn)的位置。重要的是，聲學(xué)成像儀可以有效現(xiàn)場(chǎng)的噪聲。即使現(xiàn)場(chǎng)有很多噪聲，聲學(xué)成像儀也不會(huì)受到乾擾。Fluke聲學(xué)成像儀可以設(shè)置頻段，泄漏點(diǎn)的頻率一般在2kHz以上，處於超聲波範(fàn)圍；而噪聲小於2kHz，可準(zhǔn)確設(shè)置泄露的頻段，現(xiàn)場(chǎng)噪聲互不乾擾。

衝擊測(cè)試係統(tǒng)係應(yīng)用於諸如電力變壓器、比成器、高壓開關(guān)及電力電纜等高壓器材的衝擊電壓試驗(yàn)。此種測(cè)試係依據(jù)相關(guān)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)範(fàn)執(zhí)行全波（full）或截?cái)啵╟hopped） 的閃電突波（L.I）

然而，近年來，也有專業(yè)人士已經(jīng)意識(shí)到，要使晶體管更加微小，摩爾定律將會(huì)遇到不可逾越的障礙，傳統(tǒng)的矽芯片計(jì)算機(jī)總有要遭遇極限。反摩爾定律反摩爾定律是Google的前CEO埃裡克施密特提出的：如果你反過來看摩爾定律，一個(gè)IT公司如果今天和18個(gè)月前賣掉同樣多的、同樣的產(chǎn)品，它的營業(yè)額就要降一半。IT界把它稱為反摩爾定律。消極影響：反摩爾定律對(duì)於所有的IT公司來講，都是非?？膳碌?，因?yàn)橐粋€(gè)IT公司花了同樣的勞動(dòng)，卻隻得到以前一半的收入。
HNCJ-V 雷電衝擊電壓發(fā)生裝置產(chǎn)品特征

本部分主要是控製衝擊電壓發(fā)生器的操作，手動(dòng)或自動(dòng)完成充放電過程，真正實(shí)現(xiàn)智慧化操作。

充電控製功能

係統(tǒng)采用恒流充電。

根據(jù)試驗(yàn)要求，調(diào)節(jié)充電電壓、充電時(shí)間、延時(shí)時(shí)間，能夠手動(dòng)或者自動(dòng)控製電壓發(fā)生器的充電過程。采用自動(dòng)控製方式充電時(shí)，根據(jù)設(shè)定值，自動(dòng)充電並穩(wěn)定在充電電壓值上，延時(shí)3秒報(bào)警觸發(fā)。充電電壓的重複性和穩(wěn)定度很好。

動(dòng)作控製

本體球距大小能夠自動(dòng)跟蹤設(shè)定充電電壓值，也可手動(dòng)控製調(diào)節(jié)球距大小。本體球距值在觸摸屏或組態(tài)軟件中有顯示。

截波球距大小能夠自動(dòng)跟蹤設(shè)定充電電壓值，也可手動(dòng)控製調(diào)節(jié)球距大小。截波球距值在觸摸屏或組態(tài)軟件中有顯示。

可控製本體自動(dòng)接地、充電極性切換、充電次數(shù)設(shè)定等功能。

手動(dòng)/自動(dòng)控製。

2 觸發(fā)控製

係統(tǒng)能夠手動(dòng)、自動(dòng)或報(bào)警觸發(fā)衝擊電壓發(fā)生器點(diǎn)火。觸發(fā)點(diǎn)火信號(hào)可以立延時(shí)

也就是說，壓痕接觸麵積愈大，超聲硬度計(jì)的示值愈低。而非壓痕接觸大大地增加了壓頭與被測(cè)表麵的接觸麵積，致使硬度計(jì)示值偏低於真實(shí)值。試驗(yàn)證明，洛氏硬度測(cè)量偏差在10HRC左右；布氏硬度測(cè)量偏差在20HB左右。解決辦法：在測(cè)量試樣硬度時(shí)，我們必須注意被測(cè)表麵粗糙度是否符合硬度計(jì)的檢測(cè)條件。在正常使用硬度計(jì)的條件下，必須保證試樣的被測(cè)表麵粗糙度值小於或等於Ra=0.8μm，若試樣的被測(cè)表麵粗糙度值大於Ra=0.8μm，可以通過機(jī)械方法（上磨床）或手工方法，對(duì)被測(cè)表麵進(jìn)行研磨修整，法國凱茂KIMO使試樣的被測(cè)表麵粗糙度達(dá)到檢側(cè)條件。